商品詳細
クラスターイオンビーム基礎と応用: 次世代ナノ加工プロセス
出版社日刊工業新聞社 (2006/10/1)
発売日2006/10/1
言語日本語
単行本223ページ
内容説明
本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。
目次
1 イオンビーム技術の概要(イオンの発見;イオンビーム技術の誕生 ほか)
2 ガスクラスタービームの発生(ガスクラスタービームの発生の原理;ガスクラスターイオンビーム装置 ほか)
3 クラスターイオンビームと固体表面相互作用(クラスターイオンの個体表面衝突現象;ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか)
4 ナノ加工プロセス応用(半導体デバイス応用;磁性・誘電体デバイス応用 ほか)
5 産業用クラスターイオンビーム装置(ガスクラスターイオンビーム装置;デカボランイオン注入装置)
商品の情報
カテゴリー: | 本・雑誌・漫画>>>本>>>コンピュータ・IT |
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商品の状態: | 目立った傷や汚れなし |
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